靶材系列

光学级钛靶材是高端镀膜的核心材料，其性能直接影响光学系统的能量损耗（每0.1%杂质增加约... 【详情】

钛管靶凭借其高材料利用率和均匀镀膜特性，在显示面板（如G10.5代线需Φ450×2500mm靶管）和... 【详情】

钛靶材因其优异的综合性能（性价比、成膜质量、工艺适应性），占据真空镀膜靶材市场约35%的... 【详情】

钛靶管凭借高材料利用率与镀膜均匀性，在显示面板（如8K OLED）和光伏领域占据主导地位。相... 【详情】

圆柱钛靶材凭借其高致密性与工艺适应性，在半导体（如5 nm节点TiN阻挡层）和超精密光学领域... 【详情】

装饰用高纯钛靶凭借其优异的成膜质量和环保特性，成为高端表面处理的首选。选购时需严格... 【详情】

平面显示用钛靶是高端显示面板制造的核心材料，其超纯、高密度和微观均匀性要求远高于装... 【详情】

高纯钛靶以其超低杂质含量和优异成膜性能，成为高端制造领域的核心材料。与钛合金靶相比... 【详情】

镀膜用钛管靶凭借其高利用率、优异膜厚均匀性和旋转溅射适应性，成为大面积连续镀膜的核... 【详情】

工业涂层用钛圆柱靶凭借其高纯度、优异热管理能力和适配多种复合涂层的灵活性，成为机械... 【详情】

TA2高纯钛靶通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，提升了纯度与溅射性能，成为中端... 【详情】

TA1高纯钛靶管通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，显著提升了杂质控制水平与溅... 【详情】

钛靶板（平面靶）凭借其大面积成膜能力与高纯度特性，成为半导体、光学及工业涂层领域的核心... 【详情】

TA1钛圆柱靶通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，显著提升了纯度与溅射性能，成为... 【详情】

TA1钛靶管凭借其低成本、易加工和良好的耐腐蚀性，成为工业防腐与装饰镀层的经济型选择... 【详情】

名称：铬多弧靶牌号：Gr用途：铬靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀... 【详情】

产品名称：铬旋转靶铬管靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( kg/ 块）用途：铬... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆柱靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( kg... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：高纯铬靶,铬靶材,铬靶块产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

牌号：铬靶 尺寸：100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。铬靶是用先... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆柱靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：高纯铬靶,铬靶材,铬靶块产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：铬平面靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/块）用途：铬靶用于... 【详情】

产品名称：铬旋转靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/块）用途：铬靶用于... 【详情】

产品名称：铬管靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/ 块）用途：铬靶用于半... 【详情】

名称：铬板靶牌号：Gr用途：铬板靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀... 【详情】

产品名称： 锆圆靶 、锆溅射圆靶标准： ASTM B551，GB/T21183牌号： R60702，R60704，R60705，Zr1纯... 【详情】

产品名称： 锆圆靶 、锆溅射圆靶标准： ASTM B551，GB/T21183牌号： R60702，R60704，R60705，Zr1纯... 【详情】

产品名称：锆靶材、锆管靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生产工艺：热轧+... 【详情】

产品名称：锆靶、锆靶块牌号：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔炼物流包装：快递，真空木箱包... 【详情】

产品名称：锆靶材、锆管靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生产工艺：热轧+... 【详情】

产品名称：锆靶牌号：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔炼物流包装：快递，真空木箱包装具体尺... 【详情】

产品名称：锆靶管、锆旋转靶厂家：凯泽金属材 质：Zr纯 度：99.98%晶粒度：<100um工艺：热轧，冷轧，酸... 【详情】

产品名称： 锆圆靶 、锆溅射圆靶标准： ASTM B551，GB/T21183牌号： R60702，R60704，R60705，Zr1纯... 【详情】

产品名称：锆靶牌号：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔炼物流包装：快递，真空木箱包装具体尺... 【详情】

产品名称：锆靶材 、锆平面靶纯度：99.6%类型：平面靶材标准：国标、美标、德标均可生产状态：冷... 【详情】

产品名称：锆靶管、锆旋转靶厂家：凯泽金属材 质：Zr纯 度：99.98%晶粒度：<100um工艺：热轧，冷轧，酸... 【详情】

产品名称：锆靶材、锆管靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生产工艺：热轧+... 【详情】

产品名称：锆靶、锆板靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生产工艺：热轧+冷... 【详情】

产品名称：纯锆靶材、锆圆靶、锆板靶、锆管靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、... 【详情】

产品名称：锆靶材，锆多弧靶 ，锆块牌号：R60702、R60704、R60705执行标准：GB/T8769-2010用途：用... 【详情】

产品名称：镍靶材、镍旋转靶，镍平面靶，镍多弧靶牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显... 【详情】

产品名称：镍靶材、镍旋转靶，镍平面靶，镍多弧靶牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显... 【详情】

产品名称：镍靶产品材质：Ni产品规格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客户要求定制) (可提供背... 【详情】

产品名称：镍靶（镍多弧靶）产品材质：Ni产品规格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客户要求定制) (... 【详情】

产品名称：镍靶块牌号：N6, N4用途：镍靶块主要用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极... 【详情】

产品名称：镍靶产品材质：Ni产品规格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客户要求定制) (可提供背... 【详情】

产品名称名称：镍靶材、镍旋转靶，镍靶管牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显示器、... 【详情】

产品名称：镍靶材、镍旋转靶，镍平面靶，镍多弧靶牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显... 【详情】

名称：镍靶、镍多弧靶、镍平面靶板、镍旋转靶管牌号： N6、 N4用途：用于半导体分离器件、平... 【详情】

产品名称：镍靶产品材质：Ni产品规格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客户要求定制) (可提供背... 【详情】

产品名称：镍靶材、镍旋转靶，镍平面靶，镍多弧靶牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显... 【详情】

产品名称：镍铜靶材，镍铜多弧靶，镍铜旋转靶，镍铜平面靶牌号：NiCu用途：用于半导体分离器件、平... 【详情】

产品名称名称：镍靶材、镍旋转靶，镍靶管牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显示器、... 【详情】

名称：镍靶、镍多弧靶、镍平面靶板、镍旋转靶管牌号： N6、 N4用途：用于半导体分离器件、平... 【详情】

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高，粒度细，易烧结，成型性好的特点。纯度：99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】

凯泽金属铝圆柱靶的供货规格及参数如下：1、表面车光、倒角。表面清洁光滑无起皮，气孔，裂... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶管、钛铝靶一、产品规格参数纯度：99.9% 99.99% 99.999%粒度：LD70× OD5... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高，粒度细，易烧结，成型性好的特点。纯度：99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】

凯泽金属铝圆柱靶的供货规格及参数如下：1、表面车光、倒角。表面清洁光滑无起皮，气孔，裂... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶管、钛铝靶一、产品规格参数纯度：99.9% 99.99% 99.999%粒度：LD70× OD5... 【详情】

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高，粒度细，易烧结，成型性好的特点。纯度：99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】

产品名称：钛铝靶材、钛铝多弧靶、钛铝合金靶牌号：TiLv80:20 ， 70:30 ， 30：70 ， 50:50用途：用... 【详情】

产品名称：铜靶材、铜多弧靶, 铜平面靶，铜旋转靶牌号：Cu用途：用于半导体分离器件、平面显示... 【详情】

名称：铜靶材、铜多弧靶, 铜平面靶，铜旋转靶牌号：Cu用途：用于半导体分离器件、平面显示器、... 【详情】