1、钛管靶
镀膜用钛管靶是一种空心圆柱形的高纯度钛材料，专为磁控溅射（尤其是旋转溅射工艺）设计，通过离子轰击钛管表面溅射出钛原子或离子，在基材表面形成功能性薄膜（如导电层、阻挡层或装饰层）。其结构特点可实现 360°溅射，显著提高靶材利用率（可达70%以上），适用于大面积连续镀膜场景。
2、性能特点
高纯度：纯度≥99.95%（3N5级及以上），杂质（Fe、O、C等）严格控制在ppm级，确保薄膜性能稳定。
高密度：≥4.5 g/cm³，减少溅射颗粒飞溅，降低膜层缺陷。
热传导性：钛的低热膨胀系数（8.6×10⁻⁶/K）和良好导热性（21.9 W/m·K），适合长时间高温溅射。
结构优势：空心管状设计配合旋转溅射，膜厚均匀性（±3%以内）优于静态板靶。
耐腐蚀性：钛的钝化膜（TiO₂）使其在酸碱环境中长期稳定。
3、材质与制造工艺
材质：
高纯钛（ASTM Grade 1或2），纯度等级：3N5（99.95%）至5N（99.999%）。
特殊需求时内壁复合背板材料（如铜、铝）以增强散热。
制造工艺：
原料提纯：电子束熔炼（EBM）或真空电弧熔炼（VAR），去除挥发性杂质。
塑性成型：热挤压→旋压→冷轧，形成管状坯体。
焊接密封：采用真空电子束焊接（EBW）封闭管端，避免溅射时气体泄漏。
表面处理：内外壁精密抛光（Ra≤0.6 μm）→超声波清洗→真空封装。
4、执行标准
| 标准类型 | 具体标准 |
| 国际标准 | ASTM B338（钛及钛合金无缝管）、SEMI F47（半导体靶材通用规范） |
| 国内标准 | GB/T 3625（钛及钛合金管材）、SJ/T 11609-2016（平板显示用溅射靶材技术规范） |
| 行业定制 | 显示面板厂商对管靶壁厚公差（如±0.1 mm）及同心度（≤0.05 mm）的特殊要求 |
5、应用领域
半导体制造：铜互连阻挡层（Ti/TiN）、ALD/CVD前驱体薄膜。
平面显示：TFT-LCD阵列的铜扩散阻挡层、OLED阳极附着层。
光学镀膜：望远镜镜面反射层、手机摄像头滤光片。
装饰镀膜：智能手表表壳的氮化钛（TiN）仿金涂层。
新能源：燃料电池双极板防腐蚀镀层、光伏电池电极。
6、钛管靶、钛板靶、钛靶块的异同对比
| 特性 | 钛管靶 | 钛板靶 | 钛靶块 |
| 形状 | 空心圆柱体（壁厚3-10 mm） | 平面矩形/圆形板状 | 实心长方体/异形块体 |
| 溅射方式 | 旋转溅射（动态利用率高） | 静态磁控溅射（边缘易损耗） | 局部溅射（适用小面积镀膜） |
| 均匀性 | 膜厚波动≤±3%（旋转对称性优） | 边缘膜厚偏差可达±8% | 需多次调整溅射参数 |
| 加工难度 | 高（需精密焊接与同心度控制） | 中（大尺寸轧制技术） | 低（机加工灵活） |
| 成本 | 中高（材料利用率70%） | 高（利用率仅30-40%） | 低（小批量定制经济） |
| 适用场景 | 连续生产的大面积镀膜（如G10.5代线） | 中小尺寸设备（如G6代线） | 实验室研发或特殊形状镀膜 |
7、选购方法与注意事项
1）选购方法
纯度与杂质检测：
要求 GDMS报告，重点核查Fe（≤50 ppm）、O（≤300 ppm）、C（≤100 ppm）含量。
验证晶粒尺寸（SEM图像分析，目标≤50 μm）。
几何精度验证：
管靶壁厚公差（±0.1 mm）、同心度（≤0.05 mm）、直线度（≤0.1 mm/m）。
供应商评估：
优先选择具备 EBM熔炼+电子束焊接 技术的厂商，确保管靶致密无气孔。
查看历史案例（如是否供应京东方、三星等头部面板厂商）。
性价比分析：
计算单位镀膜面积的靶材成本（元/㎡），对比不同纯度等级（4N vs. 5N）的性价比。
2）注意事项
储存与运输：
真空充氩包装，避免管靶内壁氧化（储存湿度<30% RH）。
运输时使用定制支架固定，防止管体变形或端面磕碰。
安装与使用：
安装前用无水乙醇擦拭内壁，确保冷却水路无杂质堵塞。
初始溅射功率需阶梯式递增（如从5 W/cm²逐步升至15 W/cm²），避免热应力开裂。
维护与报废：
定期检查管靶壁厚（剩余厚度<1 mm时需更换）。
报废钛管靶可回收重熔，但需检测二次熔炼后的杂质累积情况。
镀膜用钛管靶凭借其高利用率、优异膜厚均匀性和旋转溅射适应性，成为大面积连续镀膜的核心材料。相较于钛板靶和靶块，钛管靶在量产效率和成本控制上更具优势，但对加工精度（如焊接密封性、几何公差）要求严苛。选购时需重点把控纯度、微观结构及供应商的工艺能力，使用中需优化溅射参数与维护流程，以延长靶材寿命并保障镀膜质量。
