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钛管靶

材质:Grade2、TA1、TP340、Ti-5N

执行标准: ASTM、GB/T 3620.1、JIS H 4650

浏览次数:

发布日期: 2023-08-19 16:42:14

全国热线: 0917-3376170

详细描述 / Detailed description

1、定义

钛管靶是一种中空圆柱形钛金属材料,专为旋转阴极溅射镀膜设计,通过高速旋转(通常200-500 rpm)实现靶材表面均匀刻蚀,提升材料利用率(可达80%以上,而平面靶仅40-60%)。

2、性能特点

特性数值/描述优势
溅射均匀性膜厚偏差≤±3% (对比平面靶±8%)适合大面积连续镀膜(如卷绕式镀膜生产线)
散热效率水冷系统接触面积增加50%支持高功率溅射(10-15 kW)
材料利用率80-90% (平面靶40-60%)降低单次镀膜成本
机械强度壁厚≥5mm时抗弯强度≥300 MPa可承受高速旋转离心力

3、常用材质牌号

标准体系牌号纯度要求适用场景
ASTMGrade 2≥99.7% Ti常规装饰镀膜、工具涂层
GB/T 3620.1TA1≥99.9% Ti光学镀膜、半导体封装
JIS H 4650TP340≥99.8% Ti显示面板ITO导电层
特殊高纯Ti-5N99.999% TiEUV光刻机反射镜镀膜

4、执行标准

国际标准:

ASTM B338: 钛及钛合金无缝管(规定尺寸公差±0.1mm)

ISO 5832-2: 外科植入物用钛材(适用于医疗镀膜靶材)

中国标准:

GB/T 3624: 钛及钛合金管材(壁厚公差±10%)

GB/T 5193: 溅射靶材晶粒度要求(晶粒尺寸≤50 μm)

5、应用领域

领域具体应用性能要求
显示面板OLED阳极层、TFT导电层纯度≥99.95%,氧含量<500 ppm
光伏产业薄膜太阳能电池背电极厚度均匀性CV≤2%
医疗器械人工关节抗菌涂层符合ISO 10993生物相容性标准
汽车玻璃隔热Low-E膜耐高温循环(-30~300℃)

6、与其他钛靶类型的区别

参数钛管靶钛板靶钛靶块(柱状靶)
形状空心圆柱(Φ50-500mm×L≤3m)平面矩形/圆形实心圆柱/立方体
溅射方式旋转阴极(动态镀膜)固定阴极(静态镀膜)磁控扫描溅射
材料利用率80-90%40-60%50-70%
典型应用卷绕式连续镀膜小面积精密镀膜高功率脉冲溅射(HiPIMS)
成本高(需精密离心铸造)

7、选购方法

尺寸匹配:

内径需与旋转阴极轴公差配合(推荐H7/g6间隙配合)

长度根据镀膜腔室尺寸选择(常见1-2.5m)

纯度验证:

要求提供GDMS报告(重点关注Al≤50 ppm、Fe≤100 ppm)

结构检测:

超声波探伤(UT)检测壁厚均匀性(偏差≤±0.2mm)

EBSD分析晶粒取向(择优取向(002)面占比≥60%)

供应商资质:

需具备真空自耗电弧炉(VAR)+冷轧(Pilger Mill)生产线

8、注意事项

安装精度:

同心度偏差≤0.05mm/m,防止旋转振动导致膜层波纹

冷却系统:

水温需控制在15-25℃,流量≥20 L/min(避免靶材过热变形)

寿命管理:

当壁厚磨损至原始值50%(如初始10mm剩5mm)时需更换

安全规范:

钛粉尘爆炸浓度下限为45 g/m³,加工区需配备NFPA 68标准防爆系统

钛管靶凭借其高材料利用率和均匀镀膜特性,在显示面板(如G10.5代线需Φ450×2500mm靶管)和光伏领域占据主导地位。相比钛板靶,其采购成本高约30%,但综合镀膜效率提升50%以上。特殊应用(如EUV镀膜)需选择单晶钛管靶(晶向偏差<1°),并配合离子束辅助沉积(IBAD)工艺,实现膜层表面粗糙度<0.2 nm。

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