1、 靶材的定义
靶材是通过物理气相沉积技术镀膜的溅射源。在沉积镀膜过程中，溅射源犹如靶子，受到离子束和电子束的轰击，就像打靶一样，所以就称目标溅射源材料为靶材 。
溅射靶材属于靶材的一种，是通过磁控溅射技术，形成的高能离子束轰击基体溅射源材料，使基体材料的原子被溅射出镀在表面沉积成膜，这种被溅射镀膜的材料就称为溅射靶材 。溅射靶材的实物图如下图1所示:
图1 溅射靶材实物图
2、靶材的分类
根据靶材材料种类的不同，主要分为金属靶材、合金靶材和陶瓷靶材 。
1）金属靶材
铝靶、铜靶、钼靶、钨靶等金属溅射靶材。
2）合金靶材
铝硅合金靶、镍铜合金靶、镍钒合金靶等高纯合金溅射靶材。
3）陶瓷靶材
ITO 靶、氧化锌靶、二氧化硅靶、二氧化锆靶等陶瓷溅射靶材。
3、靶材的应用
靶材作为一种镀膜材料通过物理沉积或化学方法在基体表面生成一层薄膜，利用这层薄膜的良好光电、磁导和物理化学功能，可以制备出不同功能的电子元件和产品 。主要广泛应用于以下领域中:
1）微电子领域
半导体电子产业在所有靶材的应用领域中需求量最大。特别是随着集成电路的发展，从小规模集成电路到大规模集成电路的转化，大量需要高纯靶材作为电路配线，提高计算机的运算效率。并且在此领域对靶材的要求最高，不仅在纯度上达到高纯 5N 以上，并且在晶粒尺寸、内部组织、织构等方面有很高的要求。
2）显示器
靶材也主要应用于平面显示器(FPD) 中，其中最常用的是液晶显示器(LCD)。LCD 广泛应用于手机显示屏、平板显示屏和笔记本显示屏，而液晶显示屏主要采用溅射的方法制得 。因此溅射靶材在液晶显示屏领域中起着重要的作用，其中 ITO 靶材在显示器领域中迅速发展起来。
3）存储
随着现在计算机的应用和信息技术的发展，对信息的储存也至关重要。而靶材作为新型的磁光记忆材料，制备出磁光盘和硬盘的储存器具有大容量、高致密度和寿命长的优点，将广泛应用于信息储存产业中。
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