C/Cr镀层是目前研究较多可在很多领域替代电镀硬铬的镀层。这是因为碳元素的加入可与铬形成多种碳化物，镀层表现出高的硬度，在高温作用下，沉积过程中未形成碳化物的碳可进一步与铬元素反应，生成更多铬碳化合物，有效地提高C/Cr镀层的高温硬度。Wang等人的研究结果表明，与CrN及电镀硬铬相比，磁控溅射C/Cr镀层与熔融塑料形成更小的接触角，拥有更小的表面张力，更有利于模具的脱膜和清理，从而提高生产效率，因此C/Cr镀层是一种优异的模具保护材料。
铬和碳可以化合形成多种碳化物，C在Cr中固溶度很低，随着C浓度的增加，依次形成三种不同的稳定相Cr-C化合物：立方Cr23C6、正交Cr7C3和1Cr3C2。这些碳化物所具有的
特点是：在金属碳化物中，Cr3C2抗氧化能力最强，在空气中1100～1400。C才开始显著氧化；在高温条件下，仍能保持相当高的硬度。碳化物高硬度及化学稳定性，被广泛地应用于耐磨，耐蚀环境中。碳化铬镀层除了上述3种平衡碳化物和非晶碳外，Be谢logua等采用透射电镜观测到亚稳NaCI型(B1)面心立方CrCl．X相形成于离子镀制备的碳化铬镀层
中，而经过退火处理后转变为稳定的Cr3C2结构。
Cr3C2呈金属色，密度为6.689/cm3，熔点为1810。C。Cr3C2晶体强度大，硬度高，具有很好的耐磨耐蚀性。用NiCr-Cr3C2喷涂电厂锅炉炉管，管壁磨损量降低50倍，在稀硫酸溶液中是1Crl8Ni9Ti耐蚀性的30倍，特别适合于制作精密的标准块规，还可用于制造结构部件，诸如轴承、密封垫、阀门密封等。
nc．CrCx／a-C(：H)纳米复合镀层是在Cr掺杂非晶碳镀层的基础上发展起来的，旨在降低镀层残余应力，提高镀层韧性和附着性能，大部分采用反应溅射方法制备。Gassner等系统研究了反应磁控溅射制备nc．CrC。／a．C：H纳米复合镀层结构和性能的关系，基体偏压的增加引起离子轰击能量增强，使结晶度增加，晶粒尺寸增大，a-C：H剖k@sp3键增多，进而改变镀层的硬度和耐磨性能。当镀层中不含a．c：H时，纳米复合镀层具有高的磨损率和摩擦系数，而当镀层中a．C：H相的含量为64％时，纳米晶CrCx的晶粒尺寸为3.0±0．8nm，且具有相对高的sp2键，镀层具有最低摩擦系数和磨损率，分别为0.12和1.16×10’15m3／Nm。
Groudeva．zotova等通过控制铬靶和石墨靶的溅射功率，沉积了C：Cr原子比为0．08．2．40的碳化铬镀层，随着碳含量增加，观测到如下相变过程：a-Cr(C)匿]溶体--+a-Cr(C)固溶体+Cr23C6_含铬非晶碳a．C(Cr)+亚稳碳化物_CrC。／a：C纳米复合结构，具有前两种结构的镀层硬度最高，耐磨性能最佳，同时具有较低的电阻率。Hou等168j同样在磁控共溅射沉积Cr7C3中观测到基体偏压对镀层的硬度和电阻率具有显著影响，随着基体偏压由OV提高到．200V，镀层硬度从15.7GPa升高至20.4GPa，而电阻率则由826x10。6Q．cm降低至472x10‘6Q．cm。Paul等[691研究了溅射功率对射频和直流溅射Cr3C2靶沉积的碳化铬镀层结构和性能的影响，结果表明，大部分镀层具有类非晶结构，射频溅射沉积的碳化铬镀层晶粒尺寸约为40nm，略小于直流溅射沉积，而随着射频溅射功率从200W升高至500W，镀层硬度由4.7GPa线性提高至7.2GPa。Marechal等通过控制溅射工作气压和基体偏压，利用磁控溅射Cr3C2靶制备得到Cr3C2镀层，研究表明，高基体偏压和低工作气压条件下沉积的镀层最致密，而电阻率主要受氧浓度影响，不含氧的条件下，碳化铬镀层电阻率为120×10曲Q．cm，约为体材料的一半。
碳化铬镀层的硬度虽低于氮化钛镀层，但具有更好的韧性、耐磨性、抗高温氧化性和耐腐性，更高的膜基结合强度，己被广泛应用作为刀具和模具的防护涂层以及机械
部件防腐涂层和装饰用涂层。
目前，常用于C/Cr镀层制备方法有：电镀法、热反应扩散法(TRD．thermal reactivediffusion)热喷涂技术，阴极弧镀反应溅射法。物理气相沉积Cr-C具有良好的硬
度、韧性和化学稳定性。
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