铜靶材目前广泛应用于电子、通信、超导、航天等领域，并且铜靶材价格低廉，使得其成为真空镀膜行业中的主力军。由于真空镀膜行业的限制，对铜靶材的尺寸和形状要求严格，因而必须严格把关铜靶材生产工艺，下面就由凯泽金属为大家介绍铜靶材的生产工艺。
一、铜靶材加工方法
1、铸造法
将一定成分配比的合金原料熔炼，再将合金溶液浇注于模具中，形成铸锭，经机械加工制成靶材，铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等，其优点是靶材杂质含量（特别是气体杂质含量）低，密度高，可大型化；缺点是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属，普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。
2、粉末冶金法
将一定成分配比的合金原料熔炼，浇注成铸锭后再粉碎，将粉碎形成的粉末经等静压成形，再高温烧结，终形成靶材，其优点是靶材成分均匀。缺点是密度低，杂质含量高等，常用的粉末冶金工艺包括冷压、真空热压和热等静压等。
二、铜靶材加工注意事项
1、铜矿石的分类
炼铜的原料是铜矿石，铜矿石可分为三类。一是硫化矿如黄铜矿、斑铜矿和辉铜矿等。二是氧化矿如赤铜矿、孔雀石、硅孔雀石等。三是自然铜，铜矿石中铜的含量在1%左右的便有开采价值，采用浮选法可以把矿石中部分脉石等杂质除去，而得到含铜量较高的精矿砂。
2、粗铜的提纯
粗铜再经过火法精炼或电解精炼而得到精铜。粗铜火度法精炼，直接生产含铜99.5%以粗铜火法精炼，直接生产含铜99.5%以上的精铜。该法仅适问用于金、银和杂质含量较低的粗铜，所产精铜仅用于对纯度要求不高的场答合。粗铜先经过火法精炼除去部分杂质，浇粗铜先经过火法精炼除去部分杂质，铸成阳极，再进行电解精炼，产出含铜99.95%以上，杂质含量达到标准的精铜属。
3、高纯度铜材要求
对变形处理后的高纯度铜材料进行机械加工，铜靶材加工要求精度高、表面质量高，加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了，铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。有了高纯度铜锭作为原材料，对原材料进行锻造、轧制、热处理等，使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铜靶材的要求。
以上就是铜靶材生产工艺详解，可以看出铜靶材在生产的各个步骤中都有严格的要求，对铜的密度和纯度、靶材尺寸和形状都有精确的数据限制。现今电子行业迅速发展，铜靶材生产工艺急需提高，宝鸡市凯泽金属材料有限公司在铜靶材的生产上一直严格要求自己，力争为您提供优质的服务。欢迎您来电或者留言咨询。
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