因为钼具有高熔点、高电导率、较低的比阻抗以及较好的耐腐蚀性和环保性等特点，所以钼靶材被广泛应用于电子行业，例如平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料，凯泽金属将钼靶材的特性，结合相关资料，整理如下：
1、高纯度
钼靶材的纯度越高，溅射薄膜的性能越好。一般钼溅射靶材的纯度至少需要达到99.95%。但随着LCD行业玻璃基板尺寸的不断提高，要求配线的长度延长、线宽变细，为了保证薄膜的均匀性以及布线的质量，对钼溅射靶材的纯度的要求也相应提高。因此，根据溅射的玻璃基板的尺寸以及使用环境，钼溅射靶材的纯度要求在99.99%-99.999%甚至更高。
2、高致密度
溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。为了减少靶材固体中的气孔，提高薄膜性能，一般要求溅射靶材具有较高的致密度。对钼溅射靶材而言，其相对密度应该在98%以上。
3、晶粒尺寸
通常钼溅射靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。试验研究表明，细小尺寸晶粒靶的溅射速率要比粗晶粒快，而晶粒尺寸相差较小的靶，淀积薄膜的厚度分布也较均匀。
4、结晶方向
由于溅射时靶材原子容易沿原子六方紧密排列方向择优溅射出来，因此，为达到溅射速率，常通过改变靶材结晶结构的方法来增加溅射速率。靶材的结晶方向对溅射膜层的厚度均匀性影响也较大。因此，获得-一定结晶取向的靶材结构对薄膜的溅射过程至关重要。
5、导热导电
一般钼溅射靶材溅射前必须与无氧铜(或铝等其他材料)底盘连接在一起，使溅射过程中靶材与底盘的导热导电状况良好。绑定后必须经过超声波检验，保证两者的不结合区域小于2% ,这样才能满足大功率溅射要求而不致脱落。
6、凯泽金属钼靶材性能
纯度：纯钼≥99.95%，高温钼≥99%（添加稀土元素）
密度：≥10.2g/cm3
熔点：2610℃
规格：圆形靶，板靶，旋转靶，平面靶，多弧靶
适用环境：真空环境或惰性气体保护环境，纯钼较高耐高温1200度，钼合金较高耐高温1700度。
以上就是对于钼靶材特性的介绍，钼靶材的性能与溅射工艺息息相关，由于目前钼还存在着耐腐蚀性和密着性的不足，在钼靶材中加入合金元素可使溅射薄膜的性能更加均衡。宝鸡市凯泽金属材料有限公司生产的钼靶材纯度高达99.9%，可以根据客户需求进行定制，欢迎您致电咨询。
相关链接
