按照应用领域不同，电子溅射靶材可以分为半导体靶材、平面靶材、镀膜玻璃靶材、太阳能光伏靶材等，不同应用领域对金属材料的选择和性能要求存在一定的差异，其中半导体集成电路用的溅射靶材技术要求高，质量要求最苛刻。以下由靶材生产厂家-凯泽金属，结合多年的半导体、平面、镀膜等用钛镍锆铝靶材的深加工及销售经验，将靶材的分类，从应用、种类等维度，细分如下：
靶材的主要种类与用途一览表
| 靶材种类 | 应用 | 种类 | 性能要求 |
| 半导体 | 制备集成电路核心材料 | W、钨钛（Wti）、Ti、Ta、Al合金、Cu等，纯度在4N或5N以上 | 技术要求高、超高纯度金属、高精度尺寸、高集成度 |
| 平面显示 | 溅射技术保证生产薄膜均匀性，提高生产率降低成本 | 铌靶、硅靶、Cr靶、钼靶、MoNb、Al靶、铝合金靶、铜靶、铜合金 | 技术要求高、高纯度材料、材料面积大、均匀性程度高 |
| 装饰 | 用于产品表面镀膜，起美化耐磨耐腐蚀的效果 | 铬靶、钛靶、锆（Zr）、镍、钨、钛铝、CrSi、CrTi、CrAlZr、不锈钢靶 | 技术要求一般，主要用于装饰、节能等 |
| 工具 | 工具、模具表面强化，提高寿命与被制造零件质量 | TiAl靶、铬铝靶、Cr靶、Ti靶、TiN、TiC、Al203等 | 性能要求较高、使用寿命延长 |
| 太阳能光伏 | 溅射薄膜技术用于第四代薄膜太阳能电池的制作 | 氧化锌铝靶、氧化锌靶、锌铝靶、钼靶、硫化镉（CdS）靶、铜铟镓硒等 | 技术要求高、应用范围大 |
| 电子器件 | 用于薄膜电阻、薄膜电容 | NiCr靶、镍铬硅靶、铬硅靶、钽（Ta）靶、镍铬铝靶等 | 要求电子器件尺寸小、稳定性好、电阻温度系数小 |
| 信息存储 | 用于制作磁储存器 | Cr基、钴（Co）基、钴铁基、Ni基等合金 | 高储存密度、高传输速度 |
凯泽金属专注平板显示器、镀膜玻璃工业、薄膜太阳能工业、表面工程、电阻靶材、汽车车灯镀膜用靶材等。若您有钛靶、镍靶、锆靶、钛铝靶等靶材的采购意向，请电联或致函宝鸡凯泽金属，获取最新资讯及工艺性能。
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