溅射镀膜就是最近发展起来的一种新的表面处理技术。表面处理技术能使材料的物理机械和化学性能得到提高,而溅射镀膜比以往的真空镀膜具有“高速、低温”两个显著的特点。
靶材形状:板材,圆片,矩形,方形,圆环,圆棒,台阶圆片,台阶矩形,三角形,管状靶,套靶等或按客户要求订做,可根据客户提供的图纸要求加工,并可以为客户提供部分靶材的绑定服务。
参考尺寸:直径≤3556mm(14英寸),长度≤1000mm,宽度≤200mm,厚度≤20mm
溅射工艺有哪几种?
溅射工艺主要用于溅射刻蚀和薄膜淀积两个方面。
淀积薄膜时,溅射源置于靶极,受氩离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的,则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜,若在溅射室内有意识地引入反应气体,使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底,便可形成靶极材料的化合物薄膜,通常,制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。
溅射刻蚀时,被刻蚀的材料置于靶极位置,受氬离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。溅射刻蚀时,应尽可能从溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体,使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体,通过真空系统从溅射室中排出。
相关链接
