高纯铬靶

产品名称：镍靶产品材质：Ni产品规格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客户要求定制) (可提供背板绑定)纯度：99.99%产品应用：电子半导体，晶元及芯片、微电子传感器、航空航天、5G光电行... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆柱靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( kg/块）用途：铬靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。1、用途适用... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/块）用途：铬靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，... 【详情】

产品名称：镍靶材、镍旋转靶，镍平面靶，镍多弧靶牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。... 【详情】

产品名称：TA1钛靶管，钛圆柱靶牌号：TA1，GR1执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：钛圆柱靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工... 【详情】