高纯钛靶

TA2高纯钛靶通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，提升了纯度与溅射性能，成为中端工业涂层的理想选择。其性价比显著高于4N5级高纯钛靶，但薄膜性能（如电阻率、耐高温性）略逊于后者。选购时需重点把控Fe、O杂质含量及晶粒均匀性，应用中需优化溅射气体比例与基片温度。对于要求严苛的半导体或光学镀膜，仍需选用4N5级以上靶材；而在工具强化、通用防腐领域... 【详情】

TA1高纯钛靶管通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，显著提升了杂质控制水平与溅射效率，成为中端镀膜市场的理想选择。其性价比优于4N5级靶管，且比TA2靶管更适合要求较高的耐磨与光学应用。选购时需严格把控纯度、几何精度及供应商的工艺成熟度，使用中需优化溅射参数并定期维护... 【详情】

异形钛靶材通过定制化设计解决了复杂结构镀膜的行业痛点，尽管初期成本与周期较高，但其在材料利用率、镀膜精度上的优势显著。选购时需紧密协同设计与工艺团队，优先选择具备增材制造与精密加工能力的供应商，并通过小批量试制验证可行性。在半导体3D集成、航空航天高温涂层等前沿领域... 【详情】

集成电路（IC）用钛靶材是通过物理气相沉积（PVD）工艺（如磁控溅射、离子镀）在硅基芯片表面沉积钛薄膜的高纯度材料，主要用于导电粘附层、扩散阻挡层及接触孔填充。其核心作用... 【详情】

产品名称：钛靶块执行标准： GB/T2695-1996，ASTM B348-97产 地：陕西宝鸡材 质：Ti纯 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um规格：可以按照用户需要定制应用领域：适用电子、五金、钟表、眼镜、... 【详情】

产品名称：钛靶材、钛多弧靶, 钛靶块，钛块牌号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂... 【详情】