TA1纯钛靶

TA2高纯钛靶通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，提升了纯度与溅射性能，成为中端工业涂层的理想选择。其性价比显著高于4N5级高纯钛靶，但薄膜性能（如电阻率、耐高温性）略逊于后者。选购时需重点把控Fe、O杂质含量及晶粒均匀性，应用中需优化溅射气体比例与基片温度。对于要求严苛的半导体或光学镀膜，仍需选用4N5级以上靶材；而在工具强化、通用防腐领域... 【详情】

TA1高纯钛靶管通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，显著提升了杂质控制水平与溅射效率，成为中端镀膜市场的理想选择。其性价比优于4N5级靶管，且比TA2靶管更适合要求较高的耐磨与光学应用。选购时需严格把控纯度、几何精度及供应商的工艺成熟度，使用中需优化溅射参数并定期维护... 【详情】

钛靶板（平面靶）凭借其大面积成膜能力与高纯度特性，成为半导体、光学及工业涂层领域的核心材料。相较于钛管靶，其边缘损耗较高但兼容性更广；与钛合金靶相比，纯度更高但需依赖复合背板提升散热效率。选购时需严格把控纯度、微观结构及供应商工艺能力，使用中需优化溅射参数与维护流程，以平衡镀膜质量与成本效益... 【详情】

TA1钛靶管凭借其低成本、易加工和良好的耐腐蚀性，成为工业防腐与装饰镀层的经济型选择。相较于高纯钛靶管，其薄膜均匀性和耐温性稍逊，但成本优势显著；与TA2钛靶管相比，杂质控制更优，适合对镀层质量要求稍高的场景。选购时需重点关注Fe、O杂质含量及几何精度，应用中需控制溅射参数以避免膜层缺陷... 【详情】

异形钛靶材通过定制化设计解决了复杂结构镀膜的行业痛点，尽管初期成本与周期较高，但其在材料利用率、镀膜精度上的优势显著。选购时需紧密协同设计与工艺团队，优先选择具备增材制造与精密加工能力的供应商，并通过小批量试制验证可行性。在半导体3D集成、航空航天高温涂层等前沿领域... 【详情】

高纯钛靶指纯度≥ 99.95%（3N5级） 的钛溅射靶材，杂质总量≤ 500 ppm，关键元素（Fe、O、C等）需精确控制。根据应用需求，纯度可提升至 99.999%（5N级），主要用于对薄膜性能要求严苛的半导体、光学及新能源领域... 【详情】