钛平面靶

材质：TA1，TA2，TC4

执行标准： GB/T2695-1996，ASTM B348-97

浏览次数：

发布日期： 2022-07-17 19:53:08

全国热线： 0917-3376170

详细描述 / Detailed description

产品名称：钛板靶、钛平面靶、钛靶板

主要型式：圆靶/板靶/管靶

牌号：TA1，TA2，TC4

圆靶：60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/42/45/50(T)

板靶：60/80/120(W)×6/8/12(T)×519/525/620(L)&60-1000(W)×6-40(T)×600-2000(L)

管靶：0.1-30.0mm(W.T.)*3-350mm(O.D.)*50-15000mm

用途：钛平面靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。

产品相册 / Product album

联系凯泽金属 / Introduction

宝鸡市凯泽金属材料有限公司: 电话：0917-3376170，手机：13772659666 / 13759765500 王经理; QQ：524281649 邮箱：524281649@QQ.com; 地址：陕西省宝鸡市高新区宝钛路98号

相关产品 / Related Products

: TA2纯钛靶

1、定义TA2纯钛靶是以中国国家标准 GB/T 3620.1 中的 TA2（工业纯钛）为基础材料，通过特殊提纯工艺加工而成的溅射靶材。TA2钛的纯度通常为 99.2%-99.5%，但通过二次熔炼和精炼可... 【详情】

: 装饰镀膜用纯钛靶管

1、定义TA1纯钛靶管是以中国国家标准 GB/T 3620.1 中的 TA1（工业纯钛）为基础材料，通过二次提纯和精密加工制成的空心圆柱形溅射靶材。其纯度通过特殊工艺提升 99.9%（3N级）以上，... 【详情】

: 钛靶板（钛平面靶）

钛靶板（平面靶）凭借其大面积成膜能力与高纯度特性，成为半导体、光学及工业涂层领域的核心材料。相较于钛管靶，其边缘损耗较高但兼容性更广；与钛合金靶相比，纯度更高但需依赖复合背板提升散热效率。选购时需严格把控纯度、微观结构及供应商工艺能力，使用中需优化溅射参数与维护流程，以平衡镀膜质量与成本效益... 【详情】

: 工业防腐涂层用钛靶管

TA1钛靶管凭借其低成本、易加工和良好的耐腐蚀性，成为工业防腐与装饰镀层的经济型选择。相较于高纯钛靶管，其薄膜均匀性和耐温性稍逊，但成本优势显著；与TA2钛靶管相比，杂质控制更优，适合对镀层质量要求稍高的场景。选购时需重点关注Fe、O杂质含量及几何精度，应用中需控制溅射参数以避免膜层缺陷... 【详情】

: 功能性薄膜用钛平面靶

TA1钛平面靶凭借其低成本、易加工及适中的性能，成为工业防腐与装饰镀层的经济型选择。其纯度虽不及高纯钛靶，但通过工艺优化（如磁场设计、溅射参数调整）可满足一般工业需求。选购时需重点关注杂质含量与几何精度，应用中需控制氧污染并定期维护。对于精密半导体或光学镀膜，建议选用高纯钛靶；而在防腐、装饰... 【详情】

: 异形钛靶材

异形钛靶材通过定制化设计解决了复杂结构镀膜的行业痛点，尽管初期成本与周期较高，但其在材料利用率、镀膜精度上的优势显著。选购时需紧密协同设计与工艺团队，优先选择具备增材制造与精密加工能力的供应商，并通过小批量试制验证可行性。在半导体3D集成、航空航天高温涂层等前沿领域... 【详情】