凯泽金属，宝鸡钛靶、铬靶、镍靶、锆靶等靶材生产厂家，多年来专注钛多弧靶、平面靶、板靶、管靶、旋转靶等靶材的深加工，有关靶材镀膜的工艺，结合蒸发镀膜、溅射镀膜的两种不同，结合相关资料，分享如下：
真空蒸发膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子泥射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高谏运动轰击作为阴极的靶,使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜。
真空蒸发镀膜最常用的是电胆加热法,其优点是加热源的结构简单,造价低廉,操作方便缺点是不适用于难焰金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热,电子束的动能变成热能,使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源,但由于大功率激光器的造价很高,目前只能在少数研究性实验室中使用。
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