702/705锆旋转靶

光学器件用锆靶材，主要是指用于物理气相沉积（PVD），特别是磁控溅射工艺，以在高性能光学元件表面沉积特定功能薄膜的高纯锆金属或锆化合物材料。在精密光学领域，锆以其高折射率、卓... 【详情】

锆靶材，作为一种高性能的溅射靶材，正在半导体与微电子领域展现出日益重要的价值。凭借锆金属及其化合物（如二氧化锆、氮化锆、硼化锆）独特的热稳定性、优良的化学惰性、合适的电... 【详情】

集成电路晶体管制造用锆靶是以高纯度金属锆（纯度≥99.9%）或锆合金（如Zr-Hf、Zr-Nb合金）为材质‌，通过溅射镀膜工艺制备的薄膜沉积材料，具有高熔点（1852℃）、耐腐蚀、低热中子吸收截面及优异化学稳定性‌，需满足高致密度、表面光滑无裂纹及尺寸精度（圆形/矩形规格）等标准‌，主要用于MOSFET器件栅电极和金属互连层，优化导电性、热稳定性及集成密度‌。... 【详情】

产品名称： 锆圆靶 、锆溅射圆靶标准： ASTM B551，GB/T21183牌号： R60702，R60704，R60705，Zr1纯度： ≥99.6%密度： 6.51g/cm3规格： 根据客户需求定做 质量认证： ISO 9001:2008... 【详情】

产品名称： 锆圆靶 、锆溅射圆靶标准： ASTM B551，GB/T21183牌号： R60702，R60704，R60705，Zr1纯度： ≥99.6%密度： 6.51g/cm3规格： 根据客户需求定做 质量认证： ISO 9001:2008... 【详情】

产品名称：锆靶、锆靶块牌号：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔炼物流包装：快递，真空木箱包装具体尺寸：平面靶、多弧靶、帮定靶材、圆柱，根据客户图纸加工。用途：锆靶主要用于工具镀... 【详情】