一、产品名称：钛靶材
| 产品名称 | 钛靶块 、钛靶材 |
| 牌号/材质 | TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V) |
| 标准 | 钛圆靶 ：技术条件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97
钛板靶 ：技术条件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93 |
| 规格 | 圆靶：常用规格：60/65/95/100*30/32/40/45mm板靶：(8-25)mm * (150-300) mm * (1000-2500)mm管靶： 70mm * 7mm/10mm |
| 表面 | 车光，可加螺纹 |
| 特性 | 重量轻，优异的抗腐蚀性，防腐性，强度高，耐热性好，延展性好，无毒性，无磁性，优良的机械强度等。 |
| 状态 | 退火态（M） 热加工状态（R） 冷加工状态（Y）(退火，超生波探伤) |
| 应用 | 钛靶材广泛应用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等领域。 |
| 品名 | 纯度 | 密度 | 镀膜优势色 | 形状 | 常规尺寸 | 应用行业 |
| 钛铝（TiAl）合金靶 | 2N8-4N | 3.6-4.2 | 玫瑰金/咖啡金 | 圆柱形 | 直径
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装饰/工具 |
| 纯铬（Cr）靶 | 2N7-4N | 7.19 | 白色/黑色 | 圆柱形 | 直径60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装饰/工具 |
| 纯钛（Ti）靶 | 2N8-4N | 4.51 | 金黄色/枪黑色/
蓝色/玫瑰红 | 圆柱形 | 直径
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装饰/工具 |
| 纯锆（Zr）靶 | 2N5-4N | 6.5 | 金色 | 圆柱形 | 直径
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装饰/工具 |
| 纯铝（Al）靶 | 4N-5N | 2.7 | 银色 | 圆柱形 | 直径
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装饰/工具 |
| 纯镍（Ni）靶 | 3N-4N | 8.9 | 金属本色 | 圆柱形 | 直径
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装饰/工具 |
| 镍钒（Nir）靶 | 3N | 8.57 | 蓝绿色 | 圆柱形 | 直径
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装饰/工具 |
| 纯铌(Nb）靶 | 3N | 8.57 | 白色 | 圆柱形 | 直径
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装饰/工具 |
| 纯钽（Ta）靶 | 3N5 | 16.4 | 黑色/紫色 | 圆柱形 | 直径
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装饰/工具 |
钛靶概述及材质要求
1、纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
2、杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
3、密度
为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
二、产品名称：钛锻件、钛块
执行标准：GB/T 16598、ASTM B381 、AMS4928、 GB/T 25137
材质牌号: TA1、TA2、TA9、TA10、TC4、GR1、GR2、GR5、Gr7、GR9
生产工艺：锻造
尺寸规格: 50-1500* 50-2000* L
应用：钛块主要用于航空航天、海洋、军工、民用化工设备等领域。
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